1. کیمیائی ساخت (بنیادی امتیاز)
C11000: الٹرا - کم آکسیجن مواد (<0.001%) and no intentional alloying elements. Impurities (Fe, Pb, Zn, Ni) are strictly controlled to ensure purity.
C12200: جسے "فاسفورس - deoxidized تانبے" یا "DHP تانبے" (Deoxidized ہائی فاسفورس) بھی کہا جاتا ہے۔ سونگھ کے دوران آکسیجن کو دور کرنے کے لئے فاسفورس کو شامل کیا جاتا ہے ، جس کے نتیجے میں اعتدال پسند آکسیجن مواد (0.02–0.04 ٪) ہوتا ہے۔
2. آکسیجن مواد کی درجہ بندی اور متعلقہ خصوصیات
ہائیڈروجن امبریٹلمنٹ کا خطرہ:
C11000: ہائیڈروجن امبریٹلمنٹ کے خلاف مزاحم ، جس سے یہ اعلی - درجہ حرارت ویکیوم یا ہائیڈروجن - کے لئے موزوں ہے جس میں ایپلی کیشنز (جیسے ، ویکیوم ٹیوبیں ، سیمیکمڈکٹر کا سامان) شامل ہیں۔
C12200: Vulnerable to hydrogen embrittlement if exposed to hydrogen at temperatures >300 ڈگری (جیسے ، ہائیڈروجن گیس کے ساتھ ہیٹ ایکسچینجرز میں) ، کیونکہ فاسفورس آکسیجن - انتہائی حالات میں متعلقہ خطرات کو مکمل طور پر ختم نہیں کرسکتا ہے۔
3. مکینیکل اور جسمانی خصوصیات
کلیدی راستہ:
C11000 ہےبہتر برقی/تھرمل چالکتااس کی اعلی طہارت اور الٹرا - کم آکسیجن مواد {{1} applications زیادہ سے زیادہ توانائی کی منتقلی کی ضرورت ہوتی ہے (جیسے ، بجلی کے کنڈکٹر ، بس بار) کی ضرورت ہوتی ہے۔
C12200 پیش کشقدرے اعلی طاقت اور سختیفاسفورس کی موجودگی کی وجہ سے ، یہ میکانکی تناؤ کی ایپلی کیشنز (جیسے ، پلمبنگ فٹنگ ، والوز) میں زیادہ پائیدار بناتا ہے۔


4. پروسیسنگ اور من گھڑت
5. معیارات کی تعمیل
6. عام ایپلی کیشنز (صنعت - مخصوص)
7. لاگت اور دستیابی
C11000: سخت سملٹنگ عمل (آکسیجن - مفت پیداوار) اور طہارت کی ضروریات کی وجہ سے زیادہ لاگت۔ عام طور پر خاص شکلوں میں دستیاب (جیسے ، الٹرا - پتلی شیٹس ، صحت سے متعلق تاروں) اعلی - کارکردگی کی ایپلی کیشنز کے لئے۔
C12200: کم لاگت اور زیادہ وسیع پیمانے پر دستیاب (معیاری تجارتی تانبا)۔ جنرل - مقصد کی ایپلی کیشنز کے لئے ترجیح دی جاتی ہے جہاں زیادہ سے زیادہ چالکتا یا ہائیڈروجن مزاحمت کی ضرورت نہیں ہے۔







